高选择性触点是薄膜太阳能电池实现高效率的关键。这些触点通常只允许一种载流子(空穴)传导，可以帮助阻挡其他类型的载流子(电子)。
通常而言，氧化镍(NiO)是制造这些触点的最佳材料，广泛应用于多种光伏技术。然而，要想用于先进结构的硅太阳能电池，就必须生产出厚度在纳米范围内的氧化镍薄膜(比一根头发还薄10万倍)。
也正因为如此，带来了不小的挑战。目前通过溅射工艺来开发纳米厚度的氧化镍膜非常昂贵，因为生产过程中使用的设备必须进口。此外，用于开发这些膜的前体成分，如乙酰丙酮镍，也非常昂贵。这项技术的成本限制了其使用的可能性。
